Stromversorgungssysteme für KI-Rechenzentren: Wie 800VDC, SiC und GaN die Stromversorgungsarchitektur verändern

Stromversorgungsinfrastruktur eines KI-Rechenzentrums mit moderner Leistungselektronik
Große KI-Rechenzentren können sich Energieverluste nicht leisten. Das treibt die Weiterentwicklung von Stromversorgungssystemen mit dem Ziel einer höheren Effizienz voran. Hochspannungs-Gleichstromarchitekturen (HVDC) und Wide-Bandgap-Halbleiter (WBG) werden zu wichtigen Elementen bei der Weiterentwicklung der Stromverteilung und -wandlung für hochdichte KI-Infrastrukturen.

Warum stoßen herkömmliche Stromversorgungssysteme bei KI-Racks an Effizienzgrenzen?

Herkömmliche AC-Stromverteilungsarchitektur eines KI-Rechenzentrums für Server-Racks unter 250kW
Abb. 1: Typische AC-Stromverteilungsarchitektur eines Rechenzentrums für Racks mit <250kW
Herkömmliche AC-Stromversorgungssysteme können mit steigender Leistungsaufnahme von KI-Racks zunehmend ineffizient und schwer skalierbar werden. Über mehrere Wandlungsstufen entstehen Verluste und Wärme, während eine Niederspannungsverteilung mit hohen Strömen große Leiterquerschnitte erfordert.

Bei der herkömmlichen Stromversorgung von Rechenzentren können Umspanntransformatoren die Hochspannungs-Wechselspannung des Übertragungsnetzes auf eine lokale dreiphasige AC-Verteilspannung umwandeln, beispielsweise 480VAC in Nordamerika oder 400/415VAC in anderen Regionen. Batterie-Backup-Einheiten (BBUs) und Energiespeichersysteme (ESSs) können zwischen der Gebäudeeinspeisung und dem Rack zusätzliche Wandlungsstufen einführen.

Jede Wandlungsstufe verursacht Verluste und erzeugt Wärme, während die weiter nachgelagerte Niederspannungsverteilung mit hohen Strömen den Leiterbedarf erhöht. Zwischenbus- und Point-of-Load-Stromversorgungen wandeln die verfügbare Busspannung anschließend in die niedrigeren Spannungen um, die Prozessoren, GPUs und andere elektronische Lasten benötigen.

Die Branche entwickelt Stromversorgungsarchitekturen für einzelne KI-Racks, deren Leistungsaufnahme sich dem Megawattbereich nähert. Als Beispiel für die Skalierungsherausforderung schätzt NVIDIA, dass für die Versorgung von 1MW bei 54VDC allein für die Rack-Sammelschienen bis zu 200kg (440lb) Kupfer erforderlich sein könnten (Quelle: NVIDIA Technical Blog). Auf Rechenzentrumsebene wird der daraus resultierende Leiterbedarf neben elektrischen Verlusten, Wärmemanagement und verfügbarem Platz zu einem wesentlichen Auslegungskriterium. (Quelle: https://developer.nvidia.com/blog/nvidia-800-v-hvdc-architecture-will-power-the-next-Generation-of-ai-factoriesNVIDIA 800 VDC Architecture Will Power the Next Generation of AI Factories | NVIDIA Technical Blog)

Die Kosten und physischen Anforderungen der Kupferverteilung sowie die Wärmeentwicklung von Niederspannungssystemen mit hohen Strömen lenken die Entwicklung auf zwei zentrale Ansätze: Hochspannungs-DC-Verteilung zur Reduzierung von Strom und Leiterbedarf sowie Wide-Bandgap-Halbleiter zur Verbesserung der Leistungswandlung.

Übergang zu einer Hochspannungs-DC-Busarchitektur

Zukünftige 800VDC-Stromversorgungsarchitektur für leistungsstarke Server-Racks in KI-Rechenzentren
Abb. 2: Weiterentwickelte Rechenzentrums-Stromversorgungsarchitektur mit 800VDC-Verteilung und nachgelagerter Zwischenbuswandlung
Eine sich entwickelnde Architektur für hochdichte KI-Infrastrukturen nutzt einen 800VDC-Verteilbus, um den Strom bei sehr hohen Rack-Leistungen zu reduzieren. Die höhere Verteilspannung kann gegenüber der Verteilung derselben Leistung bei niedrigeren DC-Spannungen den Leiterbedarf und die I²R-Verluste verringern. Batterie-Backup-Einheiten und Energiespeichersysteme arbeiten grundsätzlich auf DC-Basis. Dadurch ergeben sich zusätzliche Möglichkeiten, Energiespeicher mit weniger unnötigen Wandlungsstufen in DC-orientierte Stromversorgungsarchitekturen zu integrieren.

Der Größenunterschied ergibt sich direkt aus I = P/V: Die Verteilung von 1MW bei 54VDC entspricht etwa 18,5kA, während dieselbe Leistung bei 800VDC 1,25kA entspricht – jeweils vor Berücksichtigung von Redundanz und Derating. Diese Stromreduzierung ist einer der grundlegenden Gründe, warum höhere Verteilspannungen mit zunehmender Rack-Leistung im Megawattbereich attraktiv werden.

Der Übergang beseitigt die nachgelagerte Spannungswandlung nicht. Ein 800VDC-Rack-Bus kann eine Zwischenwandlungsstufe auf etwa 48VDC, 50VDC oder 54VDC speisen, gefolgt von einer weiteren Wandlung auf 12VDC und schließlich auf die niedrigen Spannungen, die Prozessoren und GPUs benötigen. Diese Wandlungsebenen sind von herkömmlichen 1U-CRPS-/M-CRPS-Hot-Swap-Servernetzteilen zu unterscheiden.

Welche Leistungskomponenten verbessern die Wandlungseffizienz?

Wide-Bandgap-Halbleiter, vor allem Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN), werden zunehmend eingesetzt, um die Leistungswandlung gegenüber herkömmlichen Siliziumbauelementen in geeigneten Schaltanwendungen zu verbessern.

Wide-Bandgap-Materialien bieten Eigenschaften, die für eine hocheffiziente Leistungswandlung vorteilhaft sind, darunter eine hohe Durchbruchfeldstärke und schnelles Schaltverhalten. Abhängig von Topologie und Betriebsbedingungen können SiC- und GaN-Bauelemente dazu beitragen, Schaltverluste zu reduzieren, die Schaltfrequenz zu erhöhen und eine höhere Leistungsdichte zu unterstützen. Diese Eigenschaften sind über mehrere Wandlungsstufen hinweg relevant – von der Hochspannungs-Leistungswandlung bis hin zu Zwischenbus- und Point-of-Load-Architekturen.

Wide Bandgap im Detail

Vergleich der Bandlücken von Leitern, Halbleitern und Isolatoren
Abb. 3: Darstellung der Bandlücken in Isolatoren, Halbleitern und Leitern
Elektronen in Materialien leiten elektrischen Strom nur, wenn sie sich im Leitungsband eines Atoms befinden. Bei einem Leiter wie Kupfer überlappen Valenz- und Leitungsband, sodass sich Elektronen frei bewegen können. Ein Isolator besitzt eine sehr große Bandlücke, die Elektronen unter normalen Bedingungen nicht überwinden können. Halbleiter liegen dazwischen: Ihre Bandlücke ist schmal genug, dass Elektronen bei Zufuhr von Energie in das Leitungsband gelangen können.

Silizium besitzt eine Bandlücke von etwa 1,1eV, während SiC (etwa 3,3eV) und GaN (etwa 3,4eV) als Wide-Bandgap-Materialien bezeichnet werden, weil ihre Bandlücken ungefähr dreimal größer sind. Diese größere Bandlücke führt zu höheren Durchbruchspannungen und ermöglicht den Betrieb bei höheren Spannungen und Schaltfrequenzen.

Die größere Bandlücke und die damit verbundenen Materialeigenschaften von SiC und GaN ermöglichen den Betrieb unter elektrischen Bedingungen, die für die hochfrequente und hochspannungsseitige Leistungswandlung vorteilhaft sein können.

In geeigneten Wandlertopologien können diese Eigenschaften Schaltverluste reduzieren und den Betrieb bei höheren Schaltfrequenzen ermöglichen. Höhere Frequenzen können die Größe magnetischer und passiver Komponenten reduzieren, während geringere Halbleiterverluste den Kühlbedarf senken können. Die tatsächliche Verbesserung von Wirkungsgrad und Leistungsdichte hängt von Wandlertopologie, Spannungsniveau, Schaltfrequenz, thermischem Design und Betriebspunkt ab.
Vergleich von Leistung und Schaltfrequenz bei Silizium-, SiC- und GaN-Halbleitern
Abb. 4: Typische Einsatzbereiche von Si-, SiC- und GaN-Leistungshalbleitern

Vorteile und Anforderungen von SiC und GaN

SiC und GaN sollten nicht als austauschbare WBG-Technologien betrachtet werden. SiC ist insbesondere für Wandlungsstufen mit höheren Spannungen und Leistungen relevant, während GaN dort attraktiv ist, wo sehr hohe Schaltfrequenzen und kompakte magnetische Komponenten im Vordergrund stehen. Die geeignete Bauelementtechnologie hängt daher von Busspannung, Topologie, Schaltfrequenz, thermischem Design und erforderlichem Leistungsniveau ab.

Höhere Schaltfrequenzen können außerdem größere Wandlungsverhältnisse ermöglichen und gleichzeitig die Größe magnetischer Komponenten reduzieren. In Stromversorgungsarchitekturen auf Leiterplattenebene kann beispielsweise ein Zwischenbus zunächst von etwa 48VDC oder 54VDC auf 12VDC gewandelt werden, bevor eine Point-of-Load-Stufe die deutlich niedrigeren Spannungen für Prozessoren und GPUs erzeugt. Neue Architekturen untersuchen zudem Möglichkeiten, die Anzahl der Wandlungsstufen zu reduzieren und gleichzeitig das für schnell wechselnde KI-Lasten erforderliche Transientenverhalten aufrechtzuerhalten. Höhere Schaltfrequenzen können zusätzlich kleinere magnetische Komponenten und eine schnellere Reaktion auf Lasttransienten ermöglichen; diese Vorteile hängen jedoch von Topologie, Komponenten und Systemdesign ab.

Intelligente Stromversorgung und digitale Steuerung

Wartungsanforderungen, hohe Verfügbarkeitsanforderungen und effizientere Arbeitsabläufe treiben den Übergang zu intelligenteren Stromversorgungslösungen voran. Eine digitale Schnittstelle zur Überwachung und Steuerung von Stromversorgungsgeräten kann das Netzteil zu einem aktiven Bestandteil des übergeordneten Power-Management-Systems machen, statt lediglich eine passive Wandlungskomponente zu sein. Der offene Standard Power Management Bus (PMBus) ist ein I²C-basiertes Kommunikationsprotokoll, das die Überwachung, Konfiguration und Steuerung kompatibler Stromversorgungsgeräte unterstützen kann. Als Bestandteil eines übergeordneten Power-Management-Systems können diese Funktionen beispielsweise Lastmanagement, Diagnose und die Fernbehandlung von Fehlerzuständen unterstützen.

Installationen zukunftssicher auslegen

Zwischenstufe einer KI-Rechenzentrumsarchitektur mit AC-Verteilung und rackseitiger 800VDC-Stromversorgungsarchitektur
Abb. 5: Zwischenarchitektur mit bestehender AC-Gebäudeverteilung und HVDC-fähigem Server-Rack
Bei KI-Rechenzentren geht es längst nicht mehr nur um reine Rechenleistung. Ressourcen wie Kupfer, Wasser für die Kühlung und verfügbare Netzkapazität stoßen an ökologische und physische Grenzen. Die Reduzierung des thermischen, elektrischen und materiellen Footprints ist daher ein wichtiger Aspekt für die weitere Skalierung der Infrastruktur. Heutige Anlagen müssen auf künftige Änderungen der Stromversorgungsarchitektur vorbereitet sein, auch wenn noch nicht alle nachgelagerten Systeme dafür ausgelegt sind.

Für künftige hochdichte KI-Installationen bewertet die Branche Architekturen, die Energiespeicher enger mit der Hochspannungs-DC-Verteilung integrieren. Ein sich entwickelnder Ansatz platziert lokale BBU- oder ESS-Kapazität neben einem 800VDC-Rack-Bus. Dadurch kann der Strom bei hohen Leistungen reduziert und möglicherweise auf einige Zwischenwandlungsstufen verzichtet werden. Solche Architekturen entwickeln sich derzeit parallel zu etablierten AC- und 48/54VDC-Stromversorgungssystemen, anstatt diese generell zu ersetzen.

Eine höhere DC-Verteilspannung bringt zugleich zusätzliche Anforderungen an Design und Sicherheit mit sich. Bei einem 800VDC-System müssen eine geeignete Isolationskoordination, Kriech- und Luftstrecken, DC-geeignete Steckverbinder und Schutzkomponenten, das Erdungskonzept sowie Serviceverfahren berücksichtigt werden. Diese Anforderungen hängen von der konkreten Systemtopologie und den anzuwendenden Normen ab und lassen sich nicht allein aus der Busspannung ableiten.

Eine Übergangsarchitektur nutzt einen rackseitigen 800VDC-Verteilbus und behält gleichzeitig die bestehende AC-Infrastruktur des Rechenzentrums bei. Dadurch entsteht ein Migrationspfad zu den höheren Rack-Leistungen, die für künftige KI-Systeme erwartet werden. Der Übergang zu diesem Modell kann ein rackseitiges Stromversorgungssystem erfordern, das die bestehende AC-Verteilung des Rechenzentrums in den Hochspannungs-DC-Bus umwandelt. Abhängig von der Systemarchitektur kann dieses System auch eine lokale Batterie-Backup- oder Energiespeicherfunktion integrieren.

Zusammenfassung und RECOM-Produkte

Die schnell steigende Leistungsaufnahme von KI-Racks bringt herkömmliche Stromversorgungsarchitekturen von Rechenzentren bei Strom, Leiterquerschnitt, Wärmemanagement und Wandlungseffizienz zunehmend an praktische Grenzen. Mit weiter steigender Rack-Leistung entwickeln sich Hochspannungs-DC-Verteilung und Wide-Bandgap-Halbleiter zu wichtigen Entwicklungspfaden für die nächste Generation der KI-Infrastruktur.

Die daraus entstehenden Architekturen werden nicht auf einer einzigen Wandlungstechnologie basieren. Hochspannungsverteilung, 48/50/54VDC-Zwischenbusse, DC/DC-Wandlung auf Leiterplattenebene und Point-of-Load-Regelung übernehmen jeweils unterschiedliche Aufgaben bei der effizienten Energieversorgung vom Gebäude bis zu Prozessoren und GPUs.

RECOM unterstützt diese Architekturen dort, wo die Leistungswandlung auf Leiterplattenebene entscheidend ist: mit isolierter Gate-Drive-Stromversorgung für SiC- und GaN-Schalter, DC/DC-Wandlung auf Leiterplattenebene, Point-of-Load-Regelung und Hilfsstromversorgung. Diese Lösungen ergänzen die übergeordnete Stromversorgungsarchitektur auf Gebäude- und Rack-Ebene, anstatt dedizierte CRPS-/M-CRPS-Servernetzteile oder leistungsstarke 800VDC-Rack-Power-Shelves zu ersetzen.

Isolierte Gate-Drive-Stromversorgung für SiC und GaN

SiC- und GaN-Schalter können ihre Effizienzvorteile nur bei korrekter Gate-Ansteuerung ausspielen – und diese beginnt bei der isolierten Gate-Drive-Stromversorgung. SiC-MOSFETs benötigen typischerweise asymmetrische Ansteuerspannungen wie +15V/−3V oder +20V/−5V, während GaN-HEMTs typischerweise bei etwa +6V optimal schalten. RECOM bietet isolierte DC/DC-Wandlerfamilien, die für diese Anforderungen optimiert sind, darunter die RxxP21503-Serie (+15V/−3V, 6,4kVDC Isolation, <10pF Koppelkapazität) und die RxxP22005-Serie (+20V/−5V) für SiC-MOSFETs sowie die Serien RP-xx06, RxxP06 und SMD RA3 für GaN-Bauelemente. Weitere Informationen finden Sie in der Übersicht zu RECOM Gate-Drive-DC/DC-Wandlern.

Mit schnelleren Schaltflanken steigen die Anforderungen. Parasitäre Koppelkapazitäten über die Isolationsbarriere bilden einen Pfad für Gleichtakt-Transientenströme, die zu Störungen der Gate-Ansteuerung, Fehlauslösungen und elektromagnetischen Störungen beitragen können. Die Isolationsspannung allein reicht daher nicht aus, um eine Gate-Drive-Stromversorgung zu charakterisieren; auch Koppelkapazität und Gleichtakt-Transientenfestigkeit müssen berücksichtigt werden.

DC/DC-Wandlung auf Leiterplattenebene und Point-of-Load

Auf Leiterplattenebene können RECOM-DC/DC-Wandler Zwischenbus- und Point-of-Load-Anforderungen für Steuerung, Kommunikation, Speicher, FPGAs und Hilfsspannungen abdecken. Unterschiedliche Wandlerfamilien adressieren verschiedene Eingangsspannungs- und Stromanforderungen – von 48/54V-bezogener Zwischenbuswandlung bis hin zu kompakter, aus 12V gespeister Point-of-Load-Regelung. Diese Module ergänzen spezialisierte mehrphasige GPU-Spannungsregler oder rackseitige Power-Shelves, anstatt sie zu ersetzen.

Erfahren Sie, wie RECOM Ihre KI-Infrastruktur unterstützen kann. Entdecken Sie die isolierten Gate-Drive-Wandler von RECOM für SiC und GaN, informieren Sie sich über das RECOM-DC/DC-Wandlerportfolio für Stromversorgung auf Leiterplattenebene und Point-of-Load-Anwendungen oder wenden Sie sich an die RECOM-Applikationsingenieure um Unterstützung bei der Auswahl der passenden Lösung für Ihre Architektur zu erhalten.
Anwendungen
  Serie
1 RECOM | RA3 Series | DC/DC, SMD (pinless), 3W
Fokus
  • 3W isolated DC/DC converter
  • High 5.2kVDC/1min isolation
  • Wide operating temperature range: -40°C to +85°C
  • Ideal for IGBT/Si/SiC/GaN gate drive power
2 RECOM | RP-xx06 Series | DC/DC, THT, 1W, Single Output
  • 6V Output for GaN driver applications
  • Pot-Core transformer with separated windings
  • High 5.2kVDC isolation In compact Size
  • Low isolation capacitance (10pF max.)
3 RECOM | RxxP06 Series | DC/DC, THT, 1W, Single Output
  • 6V Output for GaN driver Applications
  • Pot-Core Transformer with separated windings
  • High 5.2kVDC Isolation in compact size
  • Low isolation capacitance (10pF max.)
4 RECOM | RxxP21503 Series | DC/DC, THT, 2W, Dual Output
  • +20/-5V & +15/-3V asymmetric outputs for SiC driver applications
  • Qualified with 65kV/µs @ Vcommon mode =1KV
  • +15/-9V asymmetric outputs for IGBT driver applications
  • Pot-core transformer with separated windings
5 RECOM | RxxP22005 Series | DC/DC, THT, 2W, Dual Output
  • +20/-5V & +15/-3V asymmetric outputs for SiC driver applications
  • Qualified with 65kV/µs @ Vcommon mode =1KV
  • +15/-9V asymmetric outputs for IGBT driver applications
  • Pot-core transformer with separated windings